02 2021年江蘇省進出口貿易總額(我國現代物流的發展趨勢及典型代表企業)

跨境電商推動外貿模式改變，縮短外貿交易鏈條。傳統貿易模式中，往往是專業外貿經銷商專門從事跨境貿易，幫助制造商將生產的貨物出口，并在目的國對接專業的外貿采購商，收貨后分給各級分銷商、零售商。而在電子商務的幫助下，制造商僅需通過跨境電商平臺即可觸達消費者，貿易鏈條大大縮短，對維持我國對外貿易的穩定增長具有深遠的意義。

——產業鏈剖析：出口和進口跨境電商為產業鏈主體

跨境電商產業鏈包括跨境電商進出口主體以及跨境電商服務商，跨境電商服務商主要包括跨境支付、跨境金融、跨境物流等配套服務產業。中國跨境電商產業鏈如下：

目前，我國跨境電商行業產業鏈企業豐富。出口跨境電商代表企業有阿里速賣通、賽維時代、百事泰、沃爾瑪等;進口跨境電商有天貓國際、京東國際、考拉海購、洋碼頭等。

行業發展歷程：行業進入3.0階段

回顧中國電商行業發展歷程可以發現，跨境電商是從傳統外貿發展到外貿電商，在進一步發展成為跨境電商的，跨境電商發展至今，也不過二三十年的時間，借助于互聯網技術的快速提升，跨境電商呈現出爆發式增長。總體來看，大致可將跨境電商的發展歷程劃分為三個階段：

行業發展現狀

——跨境電商綜試區達到132個

2022年2月國務院批復同意在鄂爾多斯市、揚州市、鎮江市、泰州市、金華市、舟山市等27個城市和地區設立跨境電子商務綜合試驗區。這是試驗區近7年時間里的第6次擴圍，范圍已擴至全國132個城市和地區。

——跨境電商進出口規模增長15%

與全球經濟復蘇仍受疫情影響，不同程度受挫的情況下，我國進出口規模仍然實現持續增長。根據海關總署數據顯示，2021年我國跨境電商進出口規模約19237億元，比2020年增長18.6%。

在進出口結構方面，目前我國跨境電商仍然以出口為主，且出口占比逐年提升。2021年跨境電商進出口總額中，出口總額占比超過70%;進口占比僅為27%左右。

——跨境電商交易規模超過14萬億元

2021年由于疫情影響，我國跨境電商行業機遇與挑戰并存。國際物流道路受阻、海外網購需求增速放緩等因素導致我國跨境電商交易規模增速放緩。2021年我國跨境電商交易規模為14.2萬億元，同比增長13.6%，增速較2020年下降了5.44個百分點。2022年上半年，我國跨境電商交易規模達到7萬億元左右。

——跨境電商行業滲透率將會不斷提升

近年來，隨著我國跨境電商出口業務的增長以及我國消費者對進口優質商品需求的增加，跨境電商滲透率持續增長。雖然2021年受疫情影響，跨境電商滲透率出現小幅下降，但未來隨著疫情影響的減弱以及跨境電商行業規模的增長，我國跨境電商行業滲透率將會不斷提升。

——跨境電商以B2B交易模式為主

在交易模式方面，目前我國跨境電商以B2B交易模式為主，2021年占比達到77%。但從發展趨勢來看，近年來B2C交易模式占比逐年提升。隨著我國跨境電商行業規模的擴大以及覆蓋范圍的拓展，未來B2C交易規模將會逐漸擴大。

行業競爭格局

——區域競爭格局：廣東省跨境電商賣家數量最多

從跨境電商平臺上的賣家數量來看，截至2021年第三季度，我國存量跨境電商B2C為52.46萬家，全國賣家數量TOP10省份分別為廣東省、浙江省、福建省、山西省、河南省、江蘇省、山東省、上海市、四川省和湖北省。

注：圖中數據截至到2021年第三季度。

全國跨境B2B賣家數量約為16萬家，賣家數量TOP5省份為廣東、浙江、江蘇、山東和福建。其中，廣東省賣家數量占比接近30%。

注：圖中數據截至到2021年第三季度。

——企業競爭格局：SHEIN估值達到3000億元

根據網經社發布《2021年度中國電子商務“百強榜”》，在跨境電商企業中市值最高的是SHEIN，達到3000億元;其次是安克創新，市值超過400億元;空中云匯市值排在第三位，為350億元。

行業發展前景及趨勢預測

——2022年我國跨境電商交易規模將達到15.7萬億元

電商法和跨境電商系列新政的出臺將進一步規范中國跨境電商市場，提升市場整體品質，促進跨境電商行業健康發展，同時全球化趨勢、消費升級將推動中國跨境電商交易規模持續增長。根據網經社預測，2022年我國跨境電商交易規模將達到15.7萬億元，其中，出口跨境電商交易規模占比77%，將達到12.1萬億元;進口跨境電商交易規模占比為23%，將達到3.6萬億元。

——跨境電商未來三大方向值得關注

未來，跨境電商將有三大關注方向：獨立站、跨境物流和合規要求。

以上數據參考前瞻產業研究院《中國跨境電商行業發展前景預測與投資戰略規劃分析報告》。

我國唯一一臺euv光刻機現狀

我國目前連一臺euv光刻機都沒有，即使是圖紙也沒有。

EUV光刻機是半導體制造中的核心設備，它使用極紫外光技術進行微細加工，能夠實現芯片制造的高精度和高速度。然而，全球EUV光刻機市場一直被荷蘭ASML公司壟斷，而中國EUV光刻機如何則備受關注。

目前，ASML公司所在的荷蘭政府以及美國政府均在對EUV光刻機的出口進行嚴格的管制，而EUV光刻機是制造芯片的必要設備之一，中國的半導體產業將會面臨供應鏈斷裂的風險。

面對這一局面，中國政府已經出臺了一系列的政策，支持國內的半導體產業發展。中國正在積極推進自主創新，加大投入力度，建設自主可控的芯片生態系統。目前，中國的一些芯片制造企業也在積極研發EUV光刻機，以期實現國產化。

性能指標：

光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。片臺和掩模夾是根據不同的樣片和掩模尺寸而進行設計的。

分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。

對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域，光源有汞燈，準分子激光器等。

以上內容參考：百度百科—光刻機

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